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ZrSiO_4超细粉体生产工艺响应面优化的方法

编号:FTJS04768

篇名:ZrSiO_4超细粉体生产工艺响应面优化的方法

作者:于飞;

关键词:解析法; 响应面优化; 硅酸锆超细粉; 干法; 回归方程;

机构: 华南理工大学材料科学与工程学院;

摘要: 硅酸锆超细粉体在陶瓷、耐火材料及电子工业等许多领域有广泛应用。而生产超细粉体关键步骤之一是超细磨矿,粉体质量又受磨矿的许多工艺参数的影响。要想获得高质量粉体必需对工艺参数进行优化,常用优化方法有两大类:实验法和解析法,本文主要介绍了解析法。响应面优化法就是一种较好的解析方法,其过程是选工艺参数及其水平,然后建立解析式并方差分析优化,进而确立最佳操作工艺参数并进行响应面解析。首先是确定一组参数(或因子),如:球料比、磨矿时间和助磨剂含量,各取三水平。然后用design-expert程序处理。因此,这就是所谓的三因子三水平的优化方法。

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