编号：CPJS02504
篇名：高纯钼溅射靶材的研究现状及发展趋势
作者：杨帆； 王快社； 胡平； 何欢承； 康轩齐； 王华； 刘仁智；
关键词：钼； 溅射靶材； 现状； 发展趋势；
机构： 西安建筑科技大学冶金学院； 西安电炉研究所有限公司； 金堆城钼业股份有限公司；
摘要： 对高纯钼溅射靶材的国内外研究现状进行了介绍,对高纯钼溅射靶材急需解决的几个问题和发展趋势做了探讨,并且对其今后的研究和发展提出了建设性意见。
