编号：FTJS04018
篇名：双靶磁控溅射共沉积V-C-Co薄膜的结构及力学性能
作者：张晓娟； 郭军； 李朋； 于晓华； 黄峰； 詹肇麟；
关键词：V-C-Co薄膜； 磁控溅射； 微结构； 力学性能；
机构： 昆明理工大学材料科学与工程学院； 中国科学院宁波材料技术与工程研究所；
摘要： 通过双靶磁控溅射共沉积法,在硅(100)和康宁玻璃基片上制备了一系列不同Co含量(原子含量0~27.2%)的VC-Co薄膜,并分别用扫描电子显微镜及其附带的X射线能谱仪分析了薄膜的生长结构及成分,用X射线衍射仪分析了薄膜的相组成,用纳米压痕仪分析了薄膜的力学性能。结果表明,Co在V-C-Co中以非晶的形式存在,且Co的加入会使VC晶粒尺寸变小,V-C-Co结晶性变差。随着Co含量的增加,薄膜呈现出较好的综合机械性能,且在含量为11.9%时达到最优。
