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Al/Ni和Al/Ti纳米多层薄膜制备与表征

编号:NMJS04618

篇名:Al/Ni和Al/Ti纳米多层薄膜制备与表征

作者:李东乐; 朱朋; 付帅; 沈瑞琪; 叶迎华; 华天丽;

关键词:军事化学与烟火技术; Al/Ni纳米多层薄膜; Al/Ti纳米多层薄膜; 磁控溅射; 结构表征; 热分析;

机构: 南京理工大学; 海军驻昆明地区军事代表办事处;

摘要: 用磁控溅射法制备了Al/Ni、Al/Ti纳米多层薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射仪(XRD)对其进行了结构表征和成分分析。用差示扫描量热法(DSC)测定了纳米多层薄膜的反应放热量。结果表明:工作压力为0.4 Pa,Al、Ni、Ti溅射功率分别为200,220,180 W条件下制备的Al/Ni、Al/Ti多层薄膜表面均匀致密,无尖锐峰,层状结构分明,组成成分分别为Al、Ni和Al、Ti单质状态;Al/Ni、Al/Ti多层薄膜放热量分别为1134.64,918.36 J·g-1,达到理论值的82.2%,80.7%。

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