资料中心

熔盐电解SiO_2/C直接制备SiC纳米线

编号:NMJS04432

篇名:熔盐电解SiO_2/C直接制备SiC纳米线

作者:赵春荣; 杨娟玉; 卢世刚;

关键词:SiC纳米线; 电解还原; 二氧化硅; 酚醛树脂;

机构: 京有色金属研究总院;

摘要: 采用纳米SiO2和酚醛树脂为原料制备酚醛树脂裂解碳纳米SiO2复合阴极(硅碳物质的量的比为1∶1),直接电解PFC/SiO2复合阴极,在900℃熔融盐CaCl2中,恒槽压2.0 V下电解,制备出碳化硅纳米线。采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)及其附带的能谱仪、X射线分析衍射仪(XRD)和拉曼光谱(Raman)对产物的组成、形貌、微观结构等进行了表征。结果表明:碳化硅纳米线呈立方晶体结构,其直径为4~13 nm,长可达数微米;室温下该纳米线在415 nm和534 nm附近有宽的发光峰。最后,讨论了碳化硅纳米线的生成机制。

最新资料
下载排行

关于我们 - 服务项目 - 版权声明 - 友情链接 - 会员体系 - 广告服务 - 联系我们 - 加入我们 - 用户反馈