编号：FTJS03655
篇名：溅射功率对氧化铝薄膜结构和光学性能的影响
作者：唐晓红； 黄美东； 王丽格； 杜姗； 刘春伟
关键词：氧化铝薄膜； 射频磁控溅射； 晶体结构； 光学性能； 溅射功率； 折射率； 消光系数
机构： 天津师范大学物理与电子信息学院
摘要： 采用射频反应磁控溅射法,在K9双面抛光玻璃基底上制备了一系列不同溅射功率的Al2O3薄膜,并对部分薄膜进行退火处理.利用X线衍射法对Al2O3薄膜退火前后的晶体结构进行分析,采用椭圆偏振光谱仪对薄膜的厚度、折射率和消光系数进行测试和拟合.实验结果表明:测射功率在100~300 W时,沉积的Al2O3薄膜退火前后均为非晶态;薄膜在可见光范围内具有良好的透光性能,透射率接近90%,为透明膜;薄膜的沉积速率随溅射功率的增大而增大;薄膜在可见光波段的折射率n随波长的增大而减小,平均值随溅射功率的增大呈现出先增大后减小的变化趋势;薄膜消光系数k的平均值亦随溅射功率的增大呈现先增大后减小的变化趋势. 更多还原
