稀士抛光粉：纯度高，粒度均匀，分布集中，粒径可定制。<br>稀土抛光液：悬浮稳定性好，抛光效率 高，能实现超精密抛光，粒径可定制。<br>CMP清洗液：针对铈基抛光材料后清洗 效率高，抛光表面质量好。

包头稀土研究院稀土抛光材料研究室成立于2009年，主要结合国家和行业发展需要，以稀土基高端抛光粉和抛光液的研制及产业化为目标，产品涵盖抛光粉/液及CMP清洗液。其中抛光粉的稀土含量大于99%，中值粒径为50~150nm、150~400nm、1～2μm、3～5μm（可定制）；抛光液固含量为10～15%，pH值为6～10（可调节），中值粒径为50~100nm、100~400nm（可定制）；此外根据不同抛光需求研发适用于不同体系的CMP清洗液，其中酸性清洗液pH值为3～6，碱性清洗液pH值为8～10，可有效解决抛光后稀土磨料残留问题。