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NANO-MASTER INC(那诺-马斯特股份有限公司)前身是NANO-MASTER USA(那诺-马斯特美国),该公司是NANO-MASTER S.A.,France(法国那诺-马斯特有限公司)于1992年在美国所创立的全资子公司,是一家国际领xian的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管NANO-MASTER,USA(那诺-马斯特美国)并正式更名。
NANO-MASTER(那诺-马斯特)自2001年开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。不到十年的时间内NANO-MASTER(那诺-马斯特)已经发展成为薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发ZX和国家ZD实验室。
Birol Kuyel博士作为NANO-MASTER(那诺-马斯特), Inc.的主席和CEO,其背景涵盖了宽广的技术领域,包含高温等离子物理、流体学、Si3N4 薄膜沉积和特性描述、X射线源开发、DUV源开发、DUV步进和扫描光刻设备开发、光刻运营成本建模(SEMATECH)等,目前拥有9项ZL技术,并发表过大量的学术论文。
NANO-MASTER(那诺-马斯特)聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员,使得公司拥有yi流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商,我们的目标是提供高品质的服务并始终位维持Z高水平的集成度。
为更好服务大中华区(包含ZG大陆,香港,台湾和澳门)的业务, NANO-MASTER(那诺-马斯特)于2015年4月份在香港正式成立NANO-MASTER CHINA(那诺-马斯特ZG),并在ZG大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。
NANO-MASTER(那诺-马斯特)自2001年开始设计开发薄膜应用方面的设备,正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD,用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD,溅射镀膜(反应溅、共溅 、组合溅),热蒸发和电子束蒸发,离子束刻蚀和反应离子刻蚀,原子层沉积,兆声清洗以及光刻胶剥离等。不到十年的时间内NANO-MASTER(那诺-马斯特)已经发展成为薄膜设备的供应商,已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发ZX和国家ZD实验室。
Birol Kuyel博士作为NANO-MASTER(那诺-马斯特), Inc.的主席和CEO,其背景涵盖了宽广的技术领域,包含高温等离子物理、流体学、Si3N4 薄膜沉积和特性描述、X射线源开发、DUV源开发、DUV步进和扫描光刻设备开发、光刻运营成本建模(SEMATECH)等,目前拥有9项ZL技术,并发表过大量的学术论文。
NANO-MASTER(那诺-马斯特)聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员,使得公司拥有yi流的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商,我们的目标是提供高品质的服务并始终位维持Z高水平的集成度。
为更好服务大中华区(包含ZG大陆,香港,台湾和澳门)的业务, NANO-MASTER(那诺-马斯特)于2015年4月份在香港正式成立NANO-MASTER CHINA(那诺-马斯特ZG),并在ZG大陆设有专门的服务办公室,提供销售和售后技术服务。
主营产品
NPC-4000 (A)全自动等离子清洗机去胶机、SWC-4000 (M)兆声掩模板清洗机、NIE-3500 (AC)全自动离子束清洗系统、NPC-3500 (M)等离子清洗机、NPC-4000 (M)等离子清洗机、SWC-4000 (W)兆声晶圆清洗机、SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统、NIE-3500 (MC)离子束清洗系统、NDT-4000热真空系统、SWC-3000 (W)兆声晶圆清洗机、NEE-4000 (M)电子束蒸发系统、NLD-3500 (A)全自动原子层沉积系统、SWC-3000 (D)兆声辅助光刻胶剥离系统、LSC-4000 (C)兆声大基片清洗系统、NIE-3000 IBE离子束刻蚀、NPC-3500 (A)全自动等离子清洗机去胶机、NPC-3000等离子清洗机去胶机、SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统、LSC-4000 (D)兆声大基片湿法去胶系统、NIE-4000 (R) RIBE反应离子束刻蚀、SWC-3000 (M)兆声掩模板清洗机、LSC-5000 (AC)全自动兆声大基片清洗系统、NRE-4000 (ICPA)全自动ICP刻蚀系统、SWC-4000 (C)兆声清洗系统、LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统、NPD-4000 (A)全自动PLD脉冲激光沉积系统、NIE-3000 (C)离子束清洗系统、磁控溅射系统NSC-4000 (M)、SWC-5000 (AD)全自动兆声湿法去胶系统、NIE-3500 (A)全自动IBE离子束刻等产品。