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非常适合 20 到 800 µm 的磨珠 更小纳米范围的软研磨 高能量真实研磨 适用于不能被污染的产品
**限度地减少磨珠从外部加工区域转移到内部带冷却的环形通道,超大面积的分离筛网使得使用极小的磨珠时也可实现很高的流速。
微小磨珠的有效分离允许以 4 米/秒的线速度进行软研磨 ,目标颗粒的细度可达到 10 nm。
由于冷却效率优越,可以在高线速度和高动力密度下实现热敏型产品的高能量真实研磨。
对不能被污染的产品进行纳米处理可选用陶瓷和金属内衬。
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布勒中国(Buhler China)是瑞士布勒集团中的重要一员。2013广州陶瓷工业展将于5月底在广交会琶洲展馆举办,布勒中国首度参展将在6.1国际馆F007-F008展示世界级研磨设备。