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纳米高剪切胶体磨,纳米胶体磨,小型纳米胶体磨,纳米研磨机,高剪切胶体磨,胶体磨价格
纳米高剪切胶体磨 纳米胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
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根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000纳米超高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。
纳米高剪切胶体磨CMS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,*小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
IKN定转子间隙一般为0.2-0.3mm,而普通乳化机一般为0.5-0.7mm,IKN定转子更加精密,对于物料的细化效果更好。另外,IKN乳化机配置三组定转子,物料通过工作腔体,相当于被剪切处理了3遍,乳化分散均质更彻底。
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2019-03-15
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