参考价格
5-10万元型号
CMD2000品牌
IKN产地
德国样本
暂无成品细度:
0-0.2入料粒度(mm):
0-100工作原理:
介质研磨粉碎程度:
超细粉碎单位能耗:
0-10产量:
300-40000装机功率(kw):
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羟丙甲基纤维素空心胶囊生产型胶体磨,高转速胶体磨,卫生级胶体磨,药用生产型胶体磨,高剪切胶体磨,管线式胶体磨机,德国进口胶体磨,改进型胶体磨
IKN胶体磨能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到全方位的清洗。
据了解及资料显示:羟丙甲基纤维素空心胶囊由羟丙甲纤维素、胶凝剂、助凝剂、 崩解控制剂、PH调节剂 等组成
要想使这些中草药混合在一起很容易,但要是想要使之均匀的混合,不分层等问题就比较麻烦,现推荐一款德国进口胶体磨,不仅可以解决药液的分层问题并减少药液损耗,还可以降低成本,它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。
IKN胶体磨机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN胶体磨可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。
CMD2000系列胶体磨的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
胶体磨的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列胶体磨设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
IKN研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到全方位的清洗。
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