产品信息
净化显影机
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发布时间:2008-08-14
有 效 期:2009年08月14日
信息内容:
该机是半导体器件制造过程中的专用工艺设备,采用半自动控制程序,实现喷雾显影工艺,电路清晰完整,由于控制系统稳定,在进行工艺中不飞片,显影速度快(30S)和节省显影液,主要用于科研和生产单位。对大规模集成电路和其它器件作显影之用。联系方式:
天津净化设备厂地 址:天津市河北区胜利路35号
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